Объявлено о создании в Москве уникального оборудования для микросхем

Зеленоградский нанотехнологический центр (резидент ОЭЗ «Технополис Москва») в партнёрстве с белорусским заводом создал первый в России фотолитограф для производства микросхем с топологическими нормами до 350 нм, сообщил мэр Москвы Сергей Собянин.

Такие микросхемы используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах.

В мире меньше 10 стран, способных выпускать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их число входит Россия.

«Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — написал Мэр Москвы.

Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.

На отечественный фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.

В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.

Источник: МояМосква

Image for illustration source: Wikimedia. License: CC BY-SA 4.0